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三星5nm EUV明年量產:Cadence & Synopsys 5nm全流程設計工具已獲三星認證!

2019-07-09 12:44:45 來源:EETOP
三星代工廠已經認證了Cadence和Synopsys的全流程工具,該工具采用了極紫外光刻(EUV)的5LPE(5nm低功耗早期)工藝技術。芯片開發人員需要全流程設計工具,以便快速為高級節點創建高效且可預測的芯片設計。


三星使用Arm Cortex-A53和Arm Cortex-A57內核認證了Synopsys Fusion設計平臺和Cadence全流程數字解決方案全流程設計工具,用于5LPE技術。該認證意味著這些工具滿足Samsung Foundry的要求,通過使用它們,芯片設計人員可以獲得5LPE技術所承諾的最佳功率,性能和面積(PPA)優勢。
 

三星的5LPE技術依賴于具有新標準單元架構的FinFET晶體管,并使用DUV和EUV步進掃描系統。新的制造工藝使芯片設計人員能夠在專為5LPE設計的IC上重復使用7LPP IP,同時享受后者提供的所有優勢。與7LPP相比,新技術的“邏輯效率”提高了25%,它還使芯片開發人員能夠將設計的功耗降低20%或將性能提高10%。
 

由三星認證的Candence和Synopsys的工具集包括編譯器,驗證器,電源電路優化器以及EUV專用工具。
 

由于三星的5LPE比公司的7LPP工藝使用更多的EUV層,因此預計它將用于三星即將在華城的EUV工廠。該生產線   預計將耗資 6萬億韓元(46.15億美元),預計2019年完工,并于2020年開始大批量生產。
 

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